濺射沉積是一種物理氣相沉積技術。是在高真空條件下，利用高能粒子，比如氬離子，轟擊靶，使靶材顆粒從固體靶材料中噴出，在襯底材料或其他元件上形成薄膜。它是一種將金屬或其他材料薄膜沉積在各種表面上的電子工藝。
我們提供各種高純度濺射靶材，同時可以支持定制靶材。我們的靶材包括純元素，化合物，合金，陶瓷，金屬間化合物和混合物。我們?yōu)槊總€濺射靶都配有分析證書。同時，我們還提供內(nèi)部濺射靶粘接和貴金屬回收服務，可以避免客戶造成材料的浪費。
我們的材料具有各種純度，范圍從99.9％到99.9999％，同時可以提供定制服務。
